لینک پرداخت و دانلود *پایین مطلب*
فرمت فایل:powerpoint (قابل ویرایش و آماده پرینت)
تعداد اسلاید:33
پاورپوینت رسوب شیمیایی فاز بخار cvd
لینک پرداخت و دانلود *پایین مطلب*
فرمت فایل:powerpoint (قابل ویرایش و آماده پرینت)
تعداد اسلاید:33
تحقیق حاضر به صورت PDF با حجم 2.62 مگابایت میباشد .
در این تحقیق روشهای پوشش دهی PVD, CVD و انواع آنها را به طور مفصل ، کامل و جامع با اشکال و جداول مربوطه توضیح داده شده و سپس مقایسه کاملی به لحاظ دما و زمان پوشش دهی و به لحاظ هزینه ای با روش PACK یا سمانتاسیون جعبه ای برای پوشش سوپرآلیاژها نموده است . قیمت ساخت این دستگاه در ایران نیز در سال 1395 برآورد شده است .
نکته : هرجا در مقاله لغت کدپ CODEP را یافتید همان روش PACK یا سمانتاسیون جعبه ای میباشد .
عناوین آن شامل موارد زیر است :
آشنایی با کلیات روشهای رسوبگذاری فیزیکی از فاز بخار
روش رونشانی پرتوی مولکولی : Molecular Beam Epitaxy MBE
روش تبخیر لیزری PLD : plusma laser deposition.
روش تفنگ الکترونی (Electron Beam Gun Evaporation)
روش تبخیر مقاومتی ( Resistant Evaporation)
روش رسوب دهی شیمایی بخار (CVD Techniques)
لایه نشانی PECVD (Plasma Enhanced Deposition )
مقایسه بین دو روش پوشش دهیCODEP و SLURRY
جدول مقایسه بین روش کدپ و دوغابی
نتیجه گیری از دو روش PACKو SLURRY
نتیجه گیری از مقایسه PVD و CVD
مناسبترین روش cvd برای پوشش بلیدهای سوپرآلیاژ پایه نیکل
مناسبترین روش PVD برای پوشش بلیدهای سوپرآلیاژ پایه نیکل
این مقاله بسیار مفید و کاربردی بوده و برای تمامی صنایع بالاخص صنایع هوافضا ، نفت ، گازو پتروشیمی، خودروسازی و ... بسیار کارآمد است .
از آنجایی که اشکال جهت فهم مطالب توضیحی ، کمک شایانی را به خواننده و مخاطب میکند لهذا اشکال آن شامل موارد زیر است :
شکل1 ) شکل شماتیک فرآیند کندوپاش (Sputtering)
شکل2) شکل شماتیک دیگری از فرآیند کندوپاش (Sputtering)
شکل 3 ) شمایی از دستگاه کندوپاش (Sputtering)
شکل5) شمایی دیگر از دستگاه MBE
شکل 7) نمونه ای یک فیلامان تفنگ الکترونی
شکل 8) نمونه ای از یک تفنگ الکترونی، داخل محفظه خلاء
شکل 9) شمایی از روش تبخیر تفنگ الکترونی Electron Beam Gun Evaporation))
شکل10) بوته های با اشکال مختلف مورد استفاده در تبخیر مقاومتی.
شکل 20) نمونه ای از بلیدهای از جنس سوپرآلیاژ
شکل 22) نحوه پوشش آلومینا در دستگاه PECVD
شکل 23) نمودار ساختار کریستالوگرافیک پوشش آلومینا
شکل 24) رابطه بین دما و فشار در انواع روشهای cvd
شکل 25) نمودار شاخص ایده آل از فرایند CVD گرمایی
جداول نیز شامل موارد زیر است :
جدول1) متداول ترین لیزرهای مورد استفاده در سامانه های PLD الکترونی
جدول3) مشخصات بوته های مورد استفاده در روش تبخیر مقاومتی
جدول5) مقایسه پارامترهای رشد در چند سامانه لایه نشانی
جدول6) مشخصات سامانه های مختلف لایه نشانی شیمیایی
جدول 7) مقایسه بین روش کدپ و دوغابی
جدول 8) پارامترهای دستگاهی در پوشش دهی آلومینا
جدول 9) جدول مقایسه روشهای پوشش دهی در تحقیق حاضر
جدول 10 ) جدول قدمت روشهای پوشش دهی
جدول 12) مقایسه روشهای پوشش دهی به لحاظ زمان
email: al_davoodi@yahoo.com
مهندس داودی 09196842855