روشهای پوشش دهی Cvd , Pvd و مقایسه آن با روش pack, slurry برای سوپرآلیاژها

اختصاصی از فی لوو روشهای پوشش دهی Cvd , Pvd و مقایسه آن با روش pack, slurry برای سوپرآلیاژها دانلود با لینک مستقیم و پر سرعت .

تحقیق حاضر به صورت PDF با حجم 2.62 مگابایت میباشد .

در این تحقیق روشهای پوشش دهی PVD, CVD  و انواع آنها را به طور مفصل ، کامل و جامع با اشکال و جداول مربوطه توضیح داده شده و سپس مقایسه کاملی به لحاظ دما و زمان پوشش دهی و به لحاظ هزینه ای با روش PACK یا سمانتاسیون جعبه ای برای پوشش سوپرآلیاژها نموده است . قیمت ساخت این دستگاه در ایران نیز در سال 1395 برآورد شده است . 

نکته : هرجا در مقاله لغت کدپ CODEP را یافتید همان روش  PACK یا سمانتاسیون جعبه ای میباشد . 

عناوین آن شامل موارد زیر است :

فصل یکم

مقدمه

آشنایی با کلیات روشهای رسوبگذاری فیزیکی از فاز بخار 

3) انواع روشهای PVD

کندوپاش (Sputtering) 

روش رونشانی پرتوی مولکولی : Molecular Beam Epitaxy   MBE

روش تبخیر لیزری    PLD : plusma laser deposition.

روش تفنگ الکترونی  (Electron Beam Gun Evaporation)

روش تبخیر مقاومتی ( Resistant Evaporation) 

نتیجه گیری از روش PVD

فصل دوم

روش رسوب دهی شیمایی بخار   (CVD Techniques)

اساس روش CVD

مزایای و معایب روش     CVD

روش های رسوب دهی شیمایی بخار 

انواع روش های CVD

رسوب‌گیری ذرات PP-CVD

لایه نشانی PECVD  (Plasma Enhanced Deposition ) 

انباشت به روش MOCVD

مقایسه انواع روشهای cvd

پوشش دهی به روش کدپ ( codep )

روش دوغابی ( Slurry ) 

فصل سوم. 

مقایسه بین دو روش پوشش دهیCODEP  و SLURRY

جدول مقایسه بین روش کدپ و دوغابی 

نتیجه گیری از دو روش PACKو SLURRY

مقایسه دو روش PVD و  CVD

نتیجه گیری از مقایسه PVD و CVD

نتیجه گیری کلی

مناسبترین روش cvd برای  پوشش بلیدهای سوپرآلیاژ پایه نیکل

Cvd  پلاسمایی یا PECVD

مناسبترین روش PVD برای  پوشش بلیدهای سوپرآلیاژ پایه نیکل

الف ) مقایسه به لحاظ دمایی

ب)به لحاظ قدمت

ج ) به لحاظ هزینه

د) به لحاظ زمان

نتیجه گیری کلی 

این مقاله بسیار مفید و کاربردی بوده و برای تمامی صنایع بالاخص صنایع هوافضا ، نفت ، گازو پتروشیمی، خودروسازی و ... بسیار کارآمد است . 

از آنجایی که اشکال جهت فهم مطالب توضیحی ، کمک شایانی را به خواننده و مخاطب میکند لهذا اشکال آن شامل موارد زیر است :

شکل1 )   شکل شماتیک فرآیند کندوپاش (Sputtering)

شکل2)   شکل شماتیک دیگری از فرآیند کندوپاش (Sputtering)

شکل 3 )  شمایی از دستگاه کندوپاش (Sputtering)

شکل5) شمایی دیگر از دستگاه MBE

شکل 7) نمونه ای یک فیلامان تفنگ الکترونی

شکل 8)  نمونه ای از یک تفنگ الکترونی، داخل محفظه خلاء 

شکل 9) شمایی از روش تبخیر تفنگ الکترونی Electron Beam Gun Evaporation)) 

شکل10)  بوته های با اشکال مختلف مورد استفاده در تبخیر مقاومتی. 

شکل 11 )  یک مثال از سیستم CVD

شکل 12)  دستگاه CVD

شکل 13) طرح شماتیک از PP-CVD

شکل 16) نمایی از PECVD

شکل 17) نمایی از PECVD

شکل 18) دستگاه MOCVD

شکل 19) دستگاه MOCVD

شکل 20) نمونه ای از بلیدهای از جنس سوپرآلیاژ 

شکل 21) جعبه های مورد نظر 

شکل 22) نحوه پوشش آلومینا در دستگاه PECVD

شکل 23)   نمودار ساختار کریستالوگرافیک  پوشش آلومینا 

شکل 24) رابطه بین دما و فشار در انواع روشهای   cvd

شکل 25) نمودار شاخص ایده آل از فرایند CVD گرمایی

جداول نیز شامل موارد زیر است :

جدول1) متداول ترین لیزرهای مورد استفاده در سامانه های PLD الکترونی

جدول3) مشخصات بوته های مورد استفاده در روش تبخیر مقاومتی

جدول5) مقایسه پارامترهای رشد در چند سامانه لایه نشانی

جدول6) مشخصات سامانه های مختلف لایه نشانی شیمیایی

جدول 7) مقایسه بین روش کدپ و دوغابی

جدول 8) پارامترهای دستگاهی در پوشش دهی آلومینا 

جدول 9) جدول مقایسه روشهای پوشش دهی در تحقیق حاضر 

جدول 10 ) جدول قدمت روشهای پوشش دهی

جدول 11) جدول هزینه دستگاهها

جدول 12) مقایسه روشهای پوشش دهی به لحاظ زمان

جدول13) جدول جمع بندی کلی

    email: [e-mail]

مهندس داودی      09196842855